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专利
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多晶硅铸锭后熔融石英坩埚碎片再生方法
专利
专利摘要: 本发明公开了一种多晶硅铸锭后熔融石英坩埚碎片再生方法,依次包括如下步骤a)对多晶硅铸锭后熔融石英坩埚碎片进行清洗分拣;b)对所述石英坩埚碎片进行非晶化处理;c)对所述石英坩埚碎片进行湿式粉碎;d)对粉碎后的石英坩埚碎片进行制浆,采用等静压方式成型;e)进行晾干及烧结处理。本发明提供的多晶硅铸锭后熔融石英坩埚碎片再生方法,通过对多晶硅铸锭后熔融石英坩埚碎片进行清洗分拣,非晶化处理,湿式粉碎以及等静压方式成型,能够避免石英材料的浪费,大大降低添加剂的加入量,避免引入杂质来源,从而使得再生坩埚具有成型强度高、致密度大、密度均匀、成品率高的特点,且制作周期短、耗费成本低。 -
一种用切片机切割铸锭高标准籽晶的方法
专利
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一种多晶硅铸锭用的坩埚、及其涂层结构和涂层制备方法
专利
专利摘要: 本发明提供了一种多晶硅铸锭用的坩埚、及其涂层结构和涂层制备方法。本发明提供的多晶硅铸锭用的坩埚涂层结构包括置于坩埚内侧壁上的第一涂层,和置于该第一涂层上的第二涂层;所述第一涂层通过刷涂第一涂层组合物形成,所述第一涂层组合物包括氮化硅和溶剂;所述第二涂层通过喷涂第二涂层组合物形成,所述第二涂层组合物由氮化硅和溶剂组成。本发明提供的多晶硅铸锭用的坩埚涂层结构厚薄均匀、不易开裂,且涂层与陶瓷石英坩埚内侧壁的结合力高,涂层中氮化硅颗粒之间的结合力强,在铸锭工艺中不易剥落、粘锅率较低。
胡娟
金牌知产顾问
215463210
全国服务热线:
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